“Trái tim” của máy quang khắc
Theo báo Giải Phóng (Jiefang Daily), đại diện Langdao Silex cho biết 90% linh kiện của hệ thống nguồn sáng EUV được nội địa hóa, với phần lớn bộ phận cốt lõi do công ty tự phát triển. Nhân viên tại hội chợ mô tả nguyên mẫu là bước then chốt đưa nguồn sáng EUV nội địa từ phòng thí nghiệm sang ứng dụng công nghiệp, dù sản xuất hàng loạt vẫn cần “ba đến năm năm nữa”.
Nguồn sáng EUV là hệ thống con quan trọng trong thiết bị quang khắc tiên tiến, tạo ra ánh sáng cực tím xa cần thiết để in các mẫu mạch siêu nhỏ lên tấm wafer silicon. Màn trình diễn công khai mang lại cái nhìn hiếm hoi về tiến bộ của Trung Quốc trong công nghệ này.
Bị cắt khỏi chuỗi cung ứng toàn cầu
Theo các biện pháp kiểm soát xuất khẩu do Washington dẫn dắt, tập đoàn ASML của Hà Lan – nhà sản xuất máy quang khắc EUV duy nhất thế giới – bị cấm bán thiết bị này cho khách hàng Trung Quốc. Vì vậy, các nhà sản xuất chip trong nước phải dựa vào thiết bị cực tím sâu (DUV) đời cũ cùng kỹ thuật tạo mẫu nhiều lần, thúc đẩy giới nghiên cứu ráo riết theo đuổi năng lực EUV nội địa.
















