Tuyên bố về nguồn sáng cần được đọc đúng đơn vị
Langdao Silex giới thiệu FlintNano LPP-OXXO như nguyên mẫu nguồn sáng, không phải máy quang khắc EUV hoàn chỉnh. Theo thông tin doanh nghiệp được The Korea Herald dẫn, nguồn dùng laser kích thích 1.000 watt để tạo hơn 15 watt EUV. Laser kích thích khác EUV đầu ra; không thể gọi đây là nguồn EUV 1.000 watt. Kế hoạch thương mại hóa ba đến năm năm cũng là mục tiêu doanh nghiệp đưa ra.
Ahn Jin-ho, chuyên gia EUV tại Hanyang University, cảnh báo chưa rõ công suất được đo ở đâu. Vị trí và điều kiện đo ảnh hưởng so sánh, nên không thể chỉ chia hai số watt để suy ra tương đương. Tương tự, tuyên bố 90% linh kiện nội địa chưa nói rõ cách tính theo số lượng hay giá trị. Tỷ lệ nội địa không tự chứng minh chất lượng hay khả năng thay thế máy.
Tạo được EUV mới là một phần hệ thống
ASML giải thích EUV dùng ánh sáng bước sóng 13,5 nanomet trong quang khắc. Nguồn sáng tạo điều kiện cho quá trình in họa tiết, nhưng bản thân nó chưa thực hiện tất cả công việc cần để tạo chip. Bản tin so sánh hơn 15 watt với hàng trăm watt thương mại. Điều đáng chú ý là khoảng cách kỹ thuật, không phải coi 500 hay 600 watt như một ngưỡng duy nhất đủ để chứng nhận máy hoàn chỉnh.















